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CVD管式气氛炉适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等实验。
CVD高温管式气氛炉
JK08-13-2B 产品特点:
JK08-13-2B 技术参数:
JK08-13-2B
0519-82898160
0519-82898163