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CVD高温管式气氛炉

简要描述:

CVD管式气氛炉适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等实验。

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JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉

JK08-13-2A 产品特点:

可根据用户需要设计生产(二温区、三温区、多温区),可预抽真空,通多种气氛。真空泵、阀采用进口设备,性能可靠。控制电路选用模糊PID程序控制技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。在预热方式上设有本公司自主研发的自动升温预热程序。在程序下*不需要操作人员监看、调整工作电流,可将工作人员从繁琐的操作中解放出来。本系列制造技术已达国内水平。

JK08-13-2A 技术参数:

型号
JK08-13-2A
设计温度
1000-1300℃
控温精度
±1℃
极限真空度
-0.01mpa(机械泵)
温区
双温区
管径长度
Ф100*1200
输入功率
9KW
电源电压
AC380V
加热原件
硅碳棒、镍铬丝

JK08-13-2A

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